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EN半導(dǎo)體/精密光學(xué)/LED/數(shù)據(jù)儲(chǔ)存/玻璃半導(dǎo)體
用于集成電路的濺射靶材是一種被廣泛運(yùn)用于半導(dǎo)體芯片制造不可或缺的材料，可用于前段的制程例如制造閘極元件、柵極、金屬層及金屬互聯(lián)等，以及后段鍵合。
高純金屬濺射靶材可由各種金屬及金屬合金制得，種類繁多，適用于通過物理氣相沉積（PVD）生成多層功能性薄膜，滿足半導(dǎo)體技術(shù)小體積和多功能集成發(fā)展趨勢(shì)的需求。
半導(dǎo)體/精密光學(xué)/LED/數(shù)據(jù)儲(chǔ)存/玻璃半導(dǎo)體
用于集成電路的濺射靶材是一種被廣泛運(yùn)用于半導(dǎo)體芯片制造不可或缺的材料，可用于前段的制程例如制造閘極元件、柵極、金屬層及金屬互聯(lián)等，以及后段鍵合。
高純金屬濺射靶材可由各種金屬及金屬合金制得，種類繁多，適用于通過物理氣相沉積（PVD）生成多層功能性薄膜，滿足半導(dǎo)體技術(shù)小體積和多功能集成發(fā)展趨勢(shì)的需求。
鎢靶、鋁靶、銅靶、鈦靶、鉻靶、鉭靶、銀靶、鎳釩靶、鎳鉻靶、鎳銅靶、鉻硅靶、鎢鈦靶、鉻鋁靶、鉻硅靶、鎳鈦靶等
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